芯片制造过程中的EUV光刻技术是什么？
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EUV（极紫外）光刻技术是一种先进的半导体制造工艺，用于精确地在硅片上形成细微的电路图案。它利用波长为13.5纳米的极紫外线，远短于传统光刻技术使用的紫外光，从而能够制造出更加精细的芯片结构。EUV光刻能够显著提高芯片的性能和集成度，是当前制造7纳米及以下制程芯片的关键技术。通过提高分辨率和成像质量，EUV光刻有助于推动半导体行业持续发展，实现更小、更快、更节能的电子设备。
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EUV光刻机的主要供应商是谁？
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EUV光刻机的主要供应商是荷兰的阿斯麦（ASML）公司。ASML是全球领先的半导体设备制造商，特别是在高端光刻设备领域，几乎垄断了EUV光刻机市场。目前，大多数领先的芯片制造企业，如台积电、三星和英特尔，都依赖ASML的EUV光刻机来生产最先进的半导体芯片。
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ASML的EUV光刻机售价是多少？
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ASML的EUV光刻机非常昂贵，一台EUV光刻机的售价通常在1.5亿美元到2亿美元之间。具体价格会因配置和技术改进而有所不同。由于其复杂的制造工艺和高精度要求，EUV光刻机是半导体制造设备中最为昂贵的设备之一。
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